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紫外曝光的光反應(yīng)過程
點(diǎn)擊量:557 日期:2023-08-11 編輯:硅時(shí)代
曝光:在光刻膠膜中發(fā)生的化學(xué)過程導(dǎo)致其在顯影液中溶解度的增加(正膠)或減少(負(fù)膠),從而可以產(chǎn)生出特定結(jié)構(gòu)光刻膠膜。
下圖1中展示了光反應(yīng)的基本步驟,即光刻膠中的光引發(fā)劑在曝光時(shí)所需的化學(xué)反應(yīng):在光輻照下光引發(fā)劑結(jié)合水分子并釋放氮?dú)夂筠D(zhuǎn)化為茚羧酸(indene carboxylic acid)。
圖1 光引發(fā)劑在吸收光子后發(fā)生的光化學(xué)反應(yīng)
SO2-R基團(tuán)的結(jié)合位點(diǎn)決定了光刻膠是對(duì)h-線和i-線敏感(結(jié)合位點(diǎn)在碳環(huán) “右”側(cè))還是對(duì)g-線敏感(結(jié)合位點(diǎn)在碳環(huán) “左” 側(cè))。為了增加其在光刻膠中的熱穩(wěn)定性和溶解度以及增強(qiáng)其作為“抑制劑”(減少暗蝕)的性能,可以將幾個(gè)DNQ-磺酸鹽分子與一個(gè)所謂的主鏈分子結(jié)合。
光反應(yīng)的量子效率定義的光刻膠膜中吸收的每光子光反應(yīng)數(shù)量。充分吸水后DNQ-基光引發(fā)法劑的透明樹脂,在對(duì)應(yīng)的波長(g、h、i線取決于DNQ)下曝光,可達(dá)到20 – 30%的量子效率。
如果在光刻膠膜中只有少量的水(再吸水不足,見光刻膠再吸水),酮(圖1,中圖)可能會(huì)發(fā)生各種不需要的二次反應(yīng)(例如與樹脂酯化或與CO2裂解聚合)。在這兩種情況下,沒有形成茚羧酸,顯影的速度只能通過降低抑制劑DNQ的濃度而增加。
在特殊化學(xué)放大光刻膠中,曝光的過程中不會(huì)形成茚羧酸,而是形成磺酸(sulphonic acid)。光化學(xué)反應(yīng)不需要水分參與,也不會(huì)釋放氮?dú)?,這使得這種光刻膠的處理比基于DNQ-基的光刻膠更簡單快速,即使是在非常厚的厚膠情況下也是如此。
在一些負(fù)膠中,如AZ®nLOF 2000系列或AZ®15nxt,曝光會(huì)激活三聚氰胺 (melamine) 交聯(lián)劑,在隨后的烘烤步驟(曝光后烘)中導(dǎo)致短酚醛樹脂單元(phenolic resin units)與長鏈連接。
部分負(fù)膠產(chǎn)品,在曝光開始過程中光聚合丙烯酸單體已經(jīng)在室溫下形成。因此這種光刻膠不需要曝光后烘過程。