掩膜版的生產(chǎn)主要包括以下幾個(gè)流程：圖形光刻，顯影，蝕刻，脫膜，清洗。其中，圖形光刻是通過光刻機(jī)進(jìn)行激光光束直寫，以完成圖形曝光，掩膜版制造都是采用正性光刻膠，通過激光作用使需要曝光區(qū)域的光刻膠內(nèi)部發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)。

在光刻過程中，曝光機(jī)的核心是曝光光源，光源通常使用紫外線燈管，其波長一般在350nm~400nm之間。曝光機(jī)使用的紫外線燈管能夠產(chǎn)生高強(qiáng)度的紫外線輻射，并具有均勻的光強(qiáng)度分布，以便在整個(gè)掩膜版上形成一致的曝光強(qiáng)度。

掩膜是制造出掩膜圖形的關(guān)鍵，掩膜通常是由透明或半透明材料制成，上面印有需要制造的電路板圖形。曝光機(jī)使用的掩膜必須具有高精度和高對(duì)比度，以確保最終制造出來的電路板符合規(guī)格要求。

隨著芯片制程工藝提升和成熟制程持續(xù)擴(kuò)產(chǎn)，亞太地區(qū)的掩膜版供需缺口在增大，預(yù)計(jì)低規(guī)格掩膜版的交貨時(shí)間將翻倍。掩膜版的供不應(yīng)求，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)擴(kuò)產(chǎn)，在這種情況下，直寫光刻曝光機(jī)作為掩膜版生產(chǎn)過程中不可或缺的設(shè)備，需求量也會(huì)隨之增加。

以中國大陸掩膜版生產(chǎn)為例，相關(guān)企業(yè)，如清溢光電、路維科技的資金募集計(jì)劃中就包含掩膜版擴(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目，清溢光電的合肥清溢光電有限公司8.5代及以下高精度掩膜版項(xiàng)目預(yù)計(jì)投資7.4億元人民幣，可以新增年產(chǎn)能1852個(gè)。路維科技的高精度半導(dǎo)體掩膜版與大尺寸平板顯示掩膜版擴(kuò)產(chǎn)項(xiàng)目預(yù)計(jì)投資2.66億元，用于G11和AMOLED平板顯示掩膜版的生產(chǎn)。

2021年，清溢光電、路維光電的資本支出分別為3.05億元、1.35億元，清溢光電招股說明書顯示，該公司設(shè)備采購支出約占總投資的70%，光刻機(jī)約占設(shè)備投資的89%。